半导体生产为何需要应用超纯水设备？-用水网

半导体生产为何需要应用超纯水设备？

　　超纯水是一种将水中的导电介质几乎去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的高纯度水，一般电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)的我们才称之为超纯水。对于半导体行业而言，超纯水是确保其高效生产的基石之一，所以我们才说半导体生产离不开超纯水设备。

　　在半导体生产环节中，清洗步骤占据了整个生产总步骤的三分之一,可以说整个清洗过程离不开超纯水设备。应用专业的超纯水设备即可产出高品质的超纯水，如今半导体行业常用的超纯水设备核心工艺为反渗透工艺、EDI系统、混床工艺，这样生产出的超纯水电阻率可达18 MΩ*cm(25℃)，具有环保、经济、发展潜力巨大等诸多优势。

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　　半导体行业应用的超纯水设备核心采用的是曲线微导力技术，应用膜法技术，在抛光段采用进口抛光树脂以及自主研发的除硼专用树脂，在保证系统高回收率的同时，有效提高系统的产水水质。设备中应用的EDI系统是一种将离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术，无需酸碱再生，是一种新型的脱盐方式，该系统的应用帮助超纯水设备降低了运行成本。该设备可连续稳定地制备超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，设备结构设计比较严密，所以其占地面积非常小，可以为企业节省大量空间，属于实用型超纯水设备。

　　综上所述，半导体行业的发展离不开超纯水设备的应用，该设备深受半导体行业的青睐，在电子芯片、集成电路及封装、晶圆、科研、航空航天等领域中应用良多。

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