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超纯水既将水中的导电介质几乎去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。我们根据水的电阻率来判断水的纯度，一般纯水电阻率为10兆欧左右，高纯水10-15兆欧，超纯水电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm。
污染物是半导体器件性能、可靠性和良品率降低的直接原因。研究表明，沾污带来的缺陷引起的芯片电学失效，比例高达80%。正因如此，芯片生产过程中需要利用超纯水对硅片进行清洗。随着半导体先进制程的推进，光刻步骤的增加，需要清洗的步骤也进一步增加，对超纯水品质的要求也更加严格。
超纯水作为电子制造中常见水，其制造离不开电子超纯水设备。该设备可以保证电子产品所需超纯水高质量的产出，从而确保适用电子制造中硅片、半导体材料、晶元材料等清洗使用。
*的超纯水设备需要克服工艺和工程实践的多重挑战。一般超纯水设备要经由多重过滤、离子交换、除气、逆渗透、紫外线、超滤、纳米滤、离子吸附过滤等多个环节才能产生超纯水，整个制造过程中采用的工艺技术复杂而精细，不容偏差。此外，各地供应水源中的离子含量也各有差别，为适应供水水源的转变并保证出水水质，电子级超纯水制备系统需要进行优化，加强技术联用工艺设计与运行，这也对超纯水企业的工艺能力带去挑战。
莱特莱德超纯水设备整套工艺流程包含了预处理工艺、反渗透纯水工艺、超纯化处理工艺以及精细处理工艺四大工艺一体，经过多级过滤单元、高性能树脂的离子置换、超滤过滤系统、紫外灯杀菌等多个单元处理之后，超纯水设备的最终产水的电阻率最高可以达到18MΩ*cm左右，水中杂质不但全部被去除，并且细菌微生物等物质也不复存在，与此同时，矿物质与微量元素也全部消除。
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