芯片制造用超纯水如何制备？

2026年10月12日 10:36:28来源：莱特莱德（上海）技术有限公司

半导体器件的制造需要消耗大量的水，在器件制造的许多不同阶段，水被用于表面清洁、湿法蚀刻、电镀和化学机械平坦化等。半导体制造所需的水不是普通意义的水，是经过严格处理，并符合半导体制造标准的超纯水。

超纯水是经过高度纯化的水，去除了所有矿物质、颗粒、细菌、微生物和溶解的气体。在芯片厂里，它也经常会被混称为去离子水，但国内通常把去离子水与超纯水分的比较开，其实去离子水是包含了超纯水的范畴，超纯水是标准更高的去离子水。

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芯片厂为什么要使用超纯水?

普通的水中含有氯，硫等杂质，会腐蚀芯片中的金属。如果水中有Na，K等金属杂质，会造成MIC(可动离子污染)等问题。因此芯片制造需要一个绝对干净的水质，超纯水应运而生。在芯片制造过程中，微小的杂质或颗粒可能会导致产品缺陷，甚至导致产品失效。因此不仅是水，其他各种半导体材料如化学品，气体等都需要超高的纯度。

芯片厂超纯水的制备

超纯水的制备通常包括三个阶段：预处理阶段，主处理阶段，以及精化阶段。

预处理阶段：超纯水的预处理阶段是超纯水制备过程的第一步，包括过滤，软化，去氯，PH调节等步骤，主要目的是去除水中的颗粒、微生物、有机物和某些离子。

主处理阶段：在这个阶段，首先使用反渗透膜技术来去除水中的大部分溶质。渗透是水分子从低浓度溶液通过半透膜到高浓度溶液的过程，以达到两侧的浓度均衡。反渗透则是利用压力来使水分子反向通过半透膜，从而达到净化水的目的。然后，使用离子交换和EDI等技术进行深度去离子化。

精化阶段：在这个阶段，根据制造端对水质的要求，超纯水处理设备通常会进行脱气、微滤、超滤、紫外线照射等，以使水质达到标准。

莱特莱德超纯水工程的超纯水设备经过上面说到的多个单元处理之后，超纯水设备的产水的电阻率可以达到18.18MΩ·cm左右，水中杂质不但全部被去除，并且细菌微生物等物质也不复存在，与此同时，矿物质与微量元素也全部消除。

关键词：超纯水设备

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