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半导体是一项涉及高新技术、具有高附加值和带动性的产业，涉及芯片设计、设备制造、新能源开发等多个领域，对于促进国家工业经济发展、带动就业增长、提高国家科技水平在国际中的竞争力等方面有十分重要的作用。随着全球半导体产业大发展，我国对半导体的重视和大力开发也成为了工业生产中的重要工作之一。在我国政府的各项扶持政策支持和企业人才持之以恒的研究下，我国在半导体生产制造和出口上取得了一定成绩，提高了我国的国际影响力。
半导体产业健康发展离不开高质量的超纯水支持。超纯水在半导体清洗、切割、蚀刻等加工工艺中发挥了关键作用。由于超纯水的纯度高，几乎除去了水分子之外的所有成分，它对产品质量基本无影响，能充分保障产品的功能可靠性。采用工业超纯水设备可以生产出质量可靠的超纯水。该设备采用了双级反渗透和EDI技术组成了核心生产工艺，生产出的超纯水纯度高、电阻率可达16 MΩ*cm（25℃）。
反渗透膜是实现水中杂质和水分子分离的关键技术。反渗透膜拥有纳米级的膜孔径和强大的抗污染能力，原水经过加压驱动进入到反渗透膜中，其含有的有机物、金属离子、矿物质、细菌等就会被膜截留。反渗透膜的水渗透效果好，在保障水分子较大通量的同时，不易被杂质堵塞。
在反渗透之后使用EDI技术可以实现超纯水深度脱盐。EDI进水是二级反渗透产水，水质较好，脱盐后浓水水质仍旧能够优于一级反渗透产水，可回流至一级反渗透产水箱。
工业超纯水设备具有生产质量稳定、无酸碱再生、体积小、自动化强的优点。它还采用了智能化程序设计，操作更加灵活，可根据具体需求调整运行参数，方便快捷，能为半导体生产稳定供水。
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